半导体专用多通道温控设备

主要用于半导体制程中对多路反应腔室的精准控温,装置由热交换器、循环泵、压缩机和控制系统构成,采用先进的控制算法,提高了chiller的稳定性、控温精度和反应速度。 在带负载的情况下控温精度可达±0.5℃,可在-20℃~85℃之间任意控温,有良好的温度稳定性。

产品分为:
1、单通道系列
2、双通道系列
3、三通道系统

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名称

  • 单通道系列
  • 温度范围
  • 精度
  • 冷却能力
  • 加热能力
  • 流量
  • 端口大小
  • 温度范围
  • 所需流量
  • 端口大小
  • 进口压力
  • 双通道系列
  • 温度范围
  • 精度
  • 冷却能力
  • 加热能力
  • 流量
  • 端口大小
  • 温度范围
  • 所需流量
  • 端口大小
  • 进口压力
  • 三通道系列
  • 温度范围
  • 精度
  • 冷却能力
  • 加热能力
  • 流量
  • 端口大小
  • 温度范围
  • 所需流量
  • 端口大小
  • 进口压力



参数

  • -20℃~+80℃
  • ±0.1℃
  • 2kw@-10℃
  • 3kw
  • 20LPM@0.6MPa
  • Rc3/4"
  • 15~20°C
  • 15LPM
  • Rc1/2"
  • 0.3~0.7MPa

  • -45℃~+40℃
  • ±0.2℃
  • 11kw@-20℃/5kw@-40℃
  • 2kw
  • 17LPM@0.6MPa
  • Rc3/4"
  • 15~20°C
  • 30LPM
  • Rc1/2"
  • 0.3~0.7MPa

  • -20℃~+50℃
  • ±0.1℃
  • 15kw@-10℃
  • 2kw
  • 30LPM@0.85MPa
  • Rc3/4"
  • 15~20°C
  • 30LPM
  • Rc3/4"*2
  • 0.3~0.7MPa



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